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產(chǎn)品描述：

特點：

新型結構，電子束270°偏轉。能使電子束以垂直方向打在鍍膜材料上，且能有效防止燈絲污染

磁路冷卻好，磁場長期穩(wěn)定

新型槍頭設計，拆卸方便，安裝位置精度高，聚焦性能穩(wěn)定

配置新型掃描發(fā)生器，可分別為生成方形、圓形、條形光斑，掃描范圍最高可達50mm，充分利用磨料，適應不同工藝需要

坩堝可分為多穴堝(4穴、6穴、8穴、12穴)、環(huán)形堝、香蕉形堝等，尺寸和大小可根據(jù)用戶需要而定

坩堝水冷系統(tǒng)新型設計，冷卻充分，最大蒸發(fā)功率大15kw

適用于各種高要求的光學膜、電學膜的鍍制

技術指標

蒸發(fā)功率：6kw~15kw

加速電壓：-6kv!-10kv

電子束電流：0-1A

電子束偏轉：270°

掃描范圍X：±25mm

掃描范圍Y：±25mm

掃描頻率：0~500HZ