Product introduction
產品描述：
特點：
新型結構，電子束270°偏轉。能使電子束以垂直方向打在鍍膜材料上，且能有效防止燈絲污染
磁路冷卻好，磁場長期穩(wěn)定
新型槍頭設計，拆卸方便，安裝位置精度高，聚焦性能穩(wěn)定
配置新型掃描發(fā)生器，可分別為生成方形、圓形、條形光斑，掃描范圍最高可達50mm，充分利用磨料，適應不同工藝需要
坩堝可分為多穴堝(4穴、6穴、8穴、12穴)、環(huán)形堝、香蕉形堝等，尺寸和大小可根據(jù)用戶需要而定
坩堝水冷系統(tǒng)新型設計，冷卻充分，最大蒸發(fā)功率大15kw
適用于各種高要求的光學膜、電學膜的鍍制
技術指標
蒸發(fā)功率：6kw~15kw
加速電壓：-6kv!-10kv
電子束電流：0-1A
電子束偏轉：270°
掃描范圍X：±25mm
掃描范圍Y：±25mm
掃描頻率：0~500HZ
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