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產(chǎn)品描述：

一.概述：

本蒸發(fā)源系坩堝由電機(jī)直接驅(qū)動(dòng)、電子束偏轉(zhuǎn)角為270o、用于蒸鍍各種金屬和非金屬材料的磁偏轉(zhuǎn)式E型電子束蒸發(fā)裝置。

用于真空鍍膜過(guò)程中電子束蒸發(fā)鍍膜。實(shí)際中廣泛應(yīng)用于：增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器等。

電子束蒸發(fā)能夠很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均勻性，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，薄膜易于控制。

主要特點(diǎn)：

結(jié)構(gòu)先進(jìn)

充分借鑒國(guó)內(nèi)外先進(jìn)的電子槍的優(yōu)點(diǎn)，具有獨(dú)特的水冷和密封結(jié)構(gòu)，經(jīng)多次長(zhǎng)時(shí)間的實(shí)驗(yàn)證明，電子槍能夠在很大的電子束流下長(zhǎng)期穩(wěn)定工作。

可在高溫環(huán)境下長(zhǎng)期可靠工作

在通常鍍膜工藝中，工件需加熱至很高溫度，整個(gè)真空室內(nèi)溫度很高，而本電子槍良好的冷卻系統(tǒng)能保證電子槍在 400℃的高溫環(huán)境下長(zhǎng)期正常工作。

完全適用于反應(yīng)氣體

在反應(yīng)沉積鍍膜過(guò)程中，通常需要用氧氣或氮?dú)獾扰c蒸發(fā)的膜料進(jìn)行反應(yīng)沉積所需薄膜，在此過(guò)程中增加反應(yīng)氣體的活性和能量，對(duì)形成高質(zhì)量薄膜至關(guān)重要。

本電子槍可以在完全通入反應(yīng)氣體下正常工作。

安裝簡(jiǎn)便、維護(hù)簡(jiǎn)單運(yùn)行成本低

本電子槍的安裝非常簡(jiǎn)單，耗材只是燈絲及磁件，日常維護(hù)工作主要是更換燈絲及磁件。

操作簡(jiǎn)單

電子槍的操作簡(jiǎn)單，通過(guò)調(diào)節(jié)電子槍的電子束束流以及掃描幅度即可使電子槍穩(wěn)定工作(手動(dòng)及全自動(dòng))?？刂泼姘迳夏苤苯佑^察到燈絲電壓、電流。

二、主要技術(shù)參數(shù)：