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產(chǎn)品描述：

1、原理

依據(jù)陽極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽極之間通過，其陽極的正電壓與加在內(nèi)外陰極端部間的強磁場相互作用，產(chǎn)生等離子體，來自于等離子體中的離子受陽極電場的驅(qū)動，由離子源中產(chǎn)生噴出的離子束流。2、用途

可作為基片表面的清潔離子清洗源。

可在柔性基片上直接鍍DLC和光學(xué)膜、氧化物、氮化物等作為磁控濺射過程中的離子輔助沉積。

3、特性

低氣壓、低電壓、高束流。陽極膜離子源產(chǎn)生的低能量、大束流的離子束可以有效去除基片表面的有機污染物和氧化層，增加薄膜的附著力，同時避免對基片轟擊時造成損傷(如平板顯示器鍍膜、柔性基材鍍膜)。

無燈絲、柵極及中和柵、可長時間穩(wěn)定運行和生產(chǎn)。非常高的平均無故障時間和極地的維護成本。由于陽極膜離子源無需燈絲，空心陰極等電子中和器而且水冷完全，所有其對鍍膜環(huán)境的溫度改變很小。這個特性對溫度敏感基片的鍍膜非常有利。同樣道理，沒有電子中和器使其可以長時間免維護工作。

可適應(yīng)各種反應(yīng)氣體和惰性氣體。陽極膜離子源的機構(gòu)和材料組成使得其完全適應(yīng)絕大部分反應(yīng)氣體，如氮氣、氧氣和甲烷等。

離子源長度可根據(jù)用戶需要制造。

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